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當(dāng)前位置:首頁(yè)  >  產(chǎn)品展示  >  其他連續(xù)激光器  >  X射線激光器  >  EUV-B-XRAY20nm 臺(tái)式X射線源 脈寬 7 ns

20nm 臺(tái)式X射線源 脈寬 7 ns

簡(jiǎn)要描述:20nm 臺(tái)式X射線源 脈寬 7 ns是Tingen在激光實(shí)驗(yàn)室開(kāi)發(fā)的,由高脈沖能量YAG激光器(1064nm,800mJ,7ns)聚焦于氣體電離產(chǎn)生。不同的目標(biāo)氣體對(duì)應(yīng)不同的能譜分布。

  • 產(chǎn)品型號(hào):EUV-B-XRAY
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間:2024-12-03
  • 訪  問(wèn)  量:1070

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
組成要素自由電子激光器產(chǎn)地類(lèi)別進(jìn)口
應(yīng)用領(lǐng)域化工,建材,電子

激光源產(chǎn)生的紫外/軟X射線輻射是Tingen在激光實(shí)驗(yàn)室開(kāi)發(fā)的,由高脈沖能量YAG激光器(1064nm,800mJ,7ns)聚焦于氣體電離產(chǎn)生。不同的目標(biāo)氣體對(duì)應(yīng)不同的能譜分布。

 產(chǎn)品特點(diǎn)

● 低殘留

● 高EUV能量(3.5 MJ)

● 低耗氣量(氣體脈沖持續(xù)時(shí)間:<1 ms)

● 簡(jiǎn)單目標(biāo)氣體交換

● 桌面系統(tǒng)

產(chǎn)品應(yīng)用

計(jì)量:反射測(cè)量、吸收

光譜學(xué)(nexafs)

光學(xué)/傳感器測(cè)試

EUV損壞調(diào)查

材料相互作用基礎(chǔ)研究

水窗顯微鏡(λ=2..4納米)


技術(shù)參數(shù)

參數(shù)

單位

指標(biāo)

產(chǎn)品編號(hào)


EUV-B-XRAY

工作波長(zhǎng)

nm

20nm

脈寬

ns

7

脈沖能量(Xe

mJ

3.5(4π sr, 2% BW)

轉(zhuǎn)換效率

%

0.45

等離子形狀

NA

? ~ 300 µm

重復(fù)頻率

HZ

10


測(cè)試數(shù)據(jù)展示:

tc.pngtc_副本.png


tc1.png


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